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技術文章
TECHNICAL ARTICLES氣氛燒結爐為石墨加熱、周期作業式，采用石墨管為發熱元件，適用于金屬材料、無機非金屬材料在真空或保護氣氛下進行燒結之用。也可用于光學材料的焙燒提純之用。1、窯爐內的還原氣氛不同的燃燒氣氛，會導致粘土中的鐵氧化物變價，使制品燒成后會產生各種顏色的制品。使燒成后磚瓦呈現紅色外觀的內在因素是三氧化二鐵；能決定外觀顏色的還有另外一個因素，就是焙燒階段的燃燒氣氛在起作用。低溫下的三氧化二鐵呈穩定的棕紅色。而在焙燒溫度（比如1000℃）不變、三氧化二鐵含量不變的情況下，高溫下的三氧化二鐵就...
壓力燒結爐適用于氮化硅、硬質合金等材料在高壓氮氣氣氛內進行燒結。有利于增加材料的燒結密度，提高材料的機械性能。燒結爐具有優良的組織結構、強度和密度?？梢詫崿F連續差壓脫脂、真空燒結和加壓燒結工藝;具有氣氛調節功能，爐內氣氛穩定，產品質量易于控制;爐內分壓控制，實現恒壓燒結。為了保證粉末壓坯在燒結過程中的脫蠟（潤滑劑或成形劑）、還原、合金化、組織轉變等順利進行，燒結時需要對燒結溫度、保護氣氛、壓坯傳送方式、加熱和冷卻速度等進行控制。因此，燒結爐在結構上應滿足以下要求：(1)具有完...
CVD管式爐由管式爐+真空系統+供氣系統組成，大溫度可以達到1200度，可以是單溫區、雙溫區、三溫區等，真空可以達到10-3Pa，供氣系統是流量調節可以是質子流量計或浮子流量計，混氣路數可以是2路、3路、4路、5路相混合。CVD管式爐產品特點：1、控制電路選用模糊PID程控技術，該技術控溫精度高，熱慣性小，溫度不過沖，性能可靠，操作簡單。2、氣路快速連接法蘭結構采用本公司知識產權設計,提高操作便捷性。3、中真空系統具有真空度上下限自動控制功能，高真空系統采用高壓強，耐沖擊分子...
PECVD系統就是為了使傳統的化學氣象沉積反應溫度降低，普通CVD設備的沉積溫度大多在900℃左右，而在普通CVD裝置的前端加入RF射頻感應裝置將反應氣體電離，形成等離子體，利用等離子體的活性來促進反應，可以使化學氣相沉積的溫度降到400℃左右，所以這個系統稱為增強型化學氣相沉積系統。PECVD綜合了國內大多數廠家的PECVD系統的優點，觸摸屏集中一鍵控制，實驗證明此結構沉積速度快，成膜質量好，針孔較少，不易龜裂。而且控制部分采用了自主研發的實驗電爐AIO全自動智能控制系統，...
管式電爐的爐管是其重要的關鍵的部件，也是生產試驗過程中的反應場所，工作區域。并且爐管與氣體，壓力及操作方法都有直接關系。因此管式電爐用過程中一定要注意石英管的使用和維護：1、石英管軟化的軟化點，持續限值不宜使用過長。2、石英管的耐溫度與其純度有關系，純度越高，耐溫就越高。3、保持爐管內清潔衛生，爐管內不能殘留與SiO2反應的物質，燒物料時，為了使爐管的使用壽命更長，不要直接把物料放在爐管上，用舟型坩堝盛著。4、加熱時爐管內請務必放陶瓷爐塞，否則爐管兩端溫度較高，法蘭里的O型圈...
氣氛管式爐是在某一既定溫度下，向滬內通入成分的人工制鋒氣氛，以達到某種熱處理的目的，如氣體滲碳，破氛共沙及光亮沖火，退火，E火等。為了控制中內的氣部，維持沖內的壓力，爐內工空間讎含要與外界空氣隔絕，盡量避免凋氣和吸入空氣，故要求爐完。硯體，爐門及所有外界連接零件﹔名種氣氛嚀的密封性受求高，裝，出料操作過程復雜，要求一臺爐子多用，大批量生產時，多組或大型聯合較處理或者兩用以上的機組，因而要求有較高的機械化，自動化程度。使用氣氛管式爐要注意以下內容:1、可控氣氛爐所使用的液化氣體...
管式爐具有操作簡單、保溫效果好、控溫精度高、溫度范圍大以及可通氣氛等特點，主要應用于院校實驗室、工礦企業實驗室，應用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜，金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等。在使用過程中，因操作不當的因素，很容易導致設備出現真空度不高的情況，從而影響設備的使用效率，無法達到使用標準，對此，我們應該如何進行抽真空操作，從而保證設備的使用。然而為了節約成本，我們根據抽真空的目的是排除氧氣，我們可以向管式爐內部充入氮氣、氬氣等惰性氣體，...
氣氛管式爐主要作用于物體的燒結，而在制品的燒結過程中可控氣氛爐能夠有效地提高制品的致密化程度從而獲得良好的性能制品。適用于電子陶瓷與高溫結構陶瓷的燒結、玻璃的退火與微晶化、晶體的退火、陶瓷釉料制備、粉末冶金、納米材料的燒結、金屬零件淬火及一切需快速升溫工藝要求的熱處理，是科研單位、高等院校、工礦企業理想的實驗和生產設備。氣氛管式爐的注意加熱材質：使用者要注意加熱制品的材質構成，而含有銅、鋁、鋅等元素的材質與設備加熱元件接觸會與產品發生反應。因此，無論制品是細粉、熔液或蒸汽等，...
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